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除油不净的原因有：溶液事先清洗不干净——除油溶液温度低，时间短——除油溶液浓度低，根据问题出现的原因，对应加强溶剂的清洗工作，提升除油溶液温度到规范区间，加强除油时间以及提高除油溶液浓度到工艺范围就可以解决了，关键是在操作前，作业师傅或者技术员对相关浓度与温度以及时间要有准确的判断，设定合适的蚀刻工艺。

工件表面有印迹，主要可能的原因是工件表面残有残碱或者残酸，和材料产生化学反应，有了锈迹，一般是除油和光化处理后清洁不到位引起的，因此要加工强水洗工作，去除残碱残酸；另外材料或者工件在腐蚀场合停留过久也会与空气中的酸碱产生反应，导致印迹的产生，因此工件经过清洗后，要尽快转入防蚀层的制作工序。

兴之扬蚀刻不锈钢网片小编来向大家说说电浆干法蚀刻中的基本物理及化学现象：

在干法蚀刻中，随着制程参数及电浆状态的改变，可以区分为两种极端的性质的蚀刻方式，即纯物理性蚀刻与纯化学反应性蚀刻。纯物理性蚀刻可视为一种物理溅镀(Sputter)方式，它是利用辉光放电，将气体如Ar，解离成带正电的离子，再利用偏压将离子加速，溅击在被蚀刻物的表面，而将被蚀刻物质原子击出。此过程乃完全利用物理上能量的转移，故谓之物理性蚀刻。其特色为离子撞击拥有很好的方向性，可获得接近垂直的蚀刻轮廓。但缺点是由于离子是以撞击的方式达到蚀刻的目的，因此光阻与待蚀刻材料两者将同时遭受蚀刻，造成对屏蔽物质的蚀刻选择比变差，同时蚀刻终点必须精准掌控，因为以离子撞击方式蚀刻对于底层物质的选择比很低。且被击出的物质往往非挥发性物质，而这些物质容易再度沉积至被蚀刻物薄膜的表面或侧壁。加上蚀刻效率偏低，因此，以纯物理性蚀刻方式在集成电路制造过程中很少被用到。

纯化学反应性蚀刻，则是利用电浆产生化学活性极强的原(分)子团，此原(分)子团扩散至待蚀刻物质的表面，并与待蚀刻物质反应产生挥发性之反应生成物，并被真空设备抽离反应腔。因此种反应完全利用化学反应来达成，故谓之化学反应性蚀刻。此种蚀刻方式相近于湿式蚀刻，只是反应物及产物的状态由液态改变为气态，并利用电浆来促进蚀刻的速率。因此纯化学反应性蚀刻拥有类似于湿式蚀刻的优点及缺点，即高选择比及等向性蚀刻。在半导体制程中纯化学反应性蚀刻应用的情况通常为不需做图形转换的步骤，如光阻的去除等。

马氏蚀刻不锈钢回火处理及耐蚀性

316蚀刻不锈钢马氏体型蚀刻不锈钢普通都要停止淬火处置，比方作为工具钢时，必需经过淬火状态进步其硬度。但马氏体蚀刻不锈钢也大量应用在构造钢方面，这个时分热处置就必需选择调质处置(淬火 回火)运用，关于马氏体的回火处置，必需留意一些细节。

马氏体型蚀刻不锈钢有回火脆性。所以回火时的冷却速度和回火温度必需选择恰当。

回火脆性取决于回火温度，所以不能在某一温度范围内回火。其次耐蚀性也是在某一回火温度范围内变得很不好，由于回火脆性和耐蚀性变坏的温度范围大致上是相同的，因而必需防止在此温度范围内回火。

第二类回火脆性，是从回火温度缓冷时，冲击值降落。这种钢种做为构造钢运用时，对冲击值耍给予极大的注重。所以回火的冷却速度，必需随着所请求的蚀刻不锈钢机械性能而改动。